Resistance字体由巴黎ENSAD学院La Générale的学生在F/LOS设计团队Velvetyne的帮助下使用Glyphr Studio创建。
主创：Pauline Cormault、Esther Michaud、Claire Mucchieli、Merlin Andreae、Raphaël Maman、Pedro Gomes-Cardoso、Juliette Nier、加布里埃尔Meistretty、Damien Bauza。
Font created using Glyphr Studio by the students of ENSAD Paris at La Générale, with the help of the F/LOS foundry Velvetyne.
字体风格
使用许可
本字体以SIL Open Font License 1.1（SIL 开源字型授权版本1.1，简称SIL OFL 或OFL）授权协议发布，这个授权的自由度非常高：
✔ 这款字体无论是个人还是企业都可以自由免费商用，也无需知会或者标明原作者。
✔ 这款字体可以自由传播、分享，或者将字体安装于系统、软件或APP中也是允许的，可以与任何软件捆绑再分发以及／或一并销售。
✔ 这款字体可以自由修改、改造，但修改或改造后的字体也必须同样以SIL Open Font License 1.1授权公开。
✘ 这款字体禁止用于违法行为，如因使用这款字体产生纠纷或法律诉讼，作者不承担任何责任。
✘ 根据SIL Open Font License 1.1的规定，禁止单独出售字体文件(OTF/TTF文件)的行为。
关于SIL Open Font License 1.1授权协议的内容、免责事项等详细细节，请查看详细的License授权文件的内容。
参考资料
字体来源出处：https://velvetyne.fr/fonts/resistance/
注：安装后在PS、AI、word等软件中若找不到该字体，可搜索名字「Resistance」